電解處理是大家（jiā）在電鍍工業中（zhōng）常用的（de）去除雜（zá）質的方法。電解處理亦（yì）是一個電鍍過程，不過它不是以獲得（dé）良好電鍍層為目的，而是以去除雜質(或調整鍍液成分含（hán）量)為（wéi）目的。所不同的（de）隻是（shì）在陰極上不吊掛零件，而是改為（wéi）吊掛以（yǐ）去除雜質而製作的電（diàn）解板(又稱假陰極)。在通電的情況下，使雜質在陰極電解板上沉積、夾附或還原成相對（duì）無害的物（wù）質。在少數情況下，電（diàn）解去除雜質也有在陽極上進行的，使某些（xiē）能被（bèi）氧化的雜質，在通電的情況下，到達（dá）陽極上氧（yǎng）化為氣體逸出或變為相對無害的物質。

　　一、電解條件的選擇

　　這裏所指的電解，目的是要去除鍍液中的雜（zá）質，但是在電解去除（chú）雜質的同時，往往也伴隨有溶液中主要（yào）金屬離子的放（fàng）電沉積。為（wéi）了（le）提高去除雜質的速率，減慢溶液中主要金屬離子的沉積速率，就要注意電解處理（lǐ）的操作條件。

　　① 電流密度：電解處理時，以（yǐ）控製多（duō）大（dà）的電流密度為好，原則（zé）上要按照電鍍時（shí）雜（zá）質起不良（liáng）影響的電流（liú）密度範圍。也就是說，在電鍍過程（chéng）中，若雜質的影響反映在低（dī）電（diàn）流密度區，那麽電解處理時應控製在低電流密度下進行，假使雜質的（de）影響反映在高電流密度區，則應選（xuǎn）用高電流密度進行（háng）電解；如果雜質在高電流密度區和低電流密度（dù）區都有影（yǐng）響，那麽可（kě）先用高電流密度電解處理一段時間（jiān），然後再改用低電流密（mì）度電解處理，直至鍍液恢複正常。在一般情況下，凡是用低電（diàn）流密（mì）度電（diàn）解可以去除（chú）的雜質，為了減少鍍液中主要放（fàng）電（diàn）金屬離子的沉積，一般（bān）都（dōu）采（cǎi）用低電流密度電（diàn）解。事實上（shàng），電鍍生產中，多數雜質的影響反映在低電流密度區，所以通常電解處（chù）理的電流密度控製在0.1A／dm2～0.5A／dm2之間。

　　② 溫度和pH值：電（diàn）解處理時溫（wēn）度和pH的選擇，原則上也是要根據電鍍時雜質起不良影響較大的溫度和pH範圍。例如鍍鎳（niè）溶液中（zhōng）的銅雜質（zhì）和NO3-雜質，在pH較低時的影響較大，所以電解（jiě）去除鍍鎳溶液中的銅（tóng）雜質和NO3-雜質時（shí），應選用（yòng）低pH進行電解，在這樣的條件下，去除雜質的速率較快。有些雜質在電解過程中會分解為（wéi）氣體(如NO3-在陰極上還原（yuán）為氮氧化物或氨，Cl-在陽極上氧化為Cl2，等，這時就應選用高溫電解，使電解過程中形成的氣體揮發逸出（chū）(氣體（tǐ）在溶液中的溶解度，一般隨溫度升高而降低)，從而防（fáng）止它溶解於水而重新沾汙（wū）鍍液。

　　按照一般規律（lǜ），隨著鍍液溫度（dù）的升高，電解去（qù）除雜質的速率也增大，所以當加溫對（duì）鍍液主要成分（fèn）沒有（yǒu）影響時，電解處理（lǐ）宜在加溫下進行。但究竟以控製在（zài）什麽溫度為（wéi）好，最好通過小試驗確定。

　　③ 攪拌：電解處理既然是依靠雜質在陰極(或陽極)的表麵上反應而被除去，那麽就應創造（zào）條件，使雜質與電極表麵有充（chōng）分的接觸機會。攪拌可以加速雜質運動，使它與電極的接觸機會增多，所以為了提高處（chù）理效果，電解時應攪拌鍍液。

　　二、電（diàn）解處理的要求

　　① 首先要查明有（yǒu）害雜質是（shì）否來源於電解過（guò）程：電解處理可以去除某些雜質，但有時也會產生雜質。例如有（yǒu）害（hài）雜質來源於不純（chún）的陽極（jí），電解處理（lǐ）時仍（réng）用這種陽極，那麽隨著電解過程的進（jìn）行，雜質會越積越多；又如雜質來（lái）源於某些化（huà）合物在電極上的分解，那麽電解將使這類分解產物逐漸增（zēng）多。這樣的電解處（chù）理，不但不能淨化鍍液，反而會不斷加重鍍（dù）液的（de）汙染。因（yīn）此，在電（diàn）解處理前，要進行必要的檢（jiǎn）查，預防處理過程中（zhōng）產生有（yǒu）害雜質。

　　電解用的陰極(假陰（yīn）極)麵積要盡可能（néng）大：用電解法去除雜質，大多是在陰（yīn）極表麵（miàn）上進行（háng）的，所以增大陰極麵積，可（kě）以提高去除雜（zá）質的效（xiào）率n同時為了在不同的（de）電流密度部位電解去除鍍（dù）液中不同（tóng）雜質或同一種雜質，要求電解用（yòng）的陰極做（zuò）成凹凸的（de）表麵(如瓦楞形)，這樣可以提高電解處理的效果。但陰極上的凹處不宜太深，以防（fáng）止電流密度過小（xiǎo）而使雜質不能在這些部位沉積或（huò）還原。

　　③ 電解過程中，要（yào）定時刷洗陰極：由於電解處理的時間一般都比較長，在長時間的電（diàn）解過（guò）程（chéng）中，陰極上可能會產生疏鬆（sōng）的沉（chén）積物，它的脫落會重新沾汙鍍液（yè），所以在電解一（yī）段時間後，應（yīng）將陰極取出刷洗（xǐ），把陰極上疏鬆或不良的沉積物刷去後再（zài）繼續電解。

　　④ 電解處理前，最好先做小試驗估（gū）計一下電解處理的效（xiào）果和時間：有些雜質，用電解處理很難除去，若盲目（mù）地采用電解處理，可能花了很長時間也不能使鍍液恢複正（zhèng）常。